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知造网:专利被侵权,维权要及时!

发布人:zhizaowang 发布时间:2023-05-20 69 次浏览

【案情简介】
  某株式会社持有“用于薄膜沉积的方法和系统”的发明专利。微导公司以原子层沉积(ALD)技术为核心,主要从事微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售,产品主要应用于光伏、半导体领域。某株式会社指控微导公司生产、销售的“夸父系列原子层沉积镀膜系统”(即ALD设备及工艺方法)侵犯其专利权,故诉至法院,请求判令微导公司停止侵权并赔偿经济损失300万元。

【法院认为】
  经对微导公司被诉KF550D型夸父原子层沉积镀膜系统设备的主要运行方式进行现场勘验,其与涉案专利技术方案相比,存在反应气体不进入处理室、进气与排气的流向为同一方向等不同之处。根据权利要求的记载,被诉侵权设备不具备涉案专利权利要求1与5中的全部技术特征,未落入涉案专利权的保护范围。同时,结合涉案专利说明书背景技术中的描述以及被诉侵权设备所采用的具体实施方式,足以认定被诉侵权设备与涉案专利分别采用了两种不同的技术方案。据此,法院判决驳回了某株式会社的全部诉讼请求。

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【典型意义】
  高水平科技自立自强是国家的强盛之基、安全之要。当前,集成电路产业已成为新一轮全球科技竞争的核心之一。微导公司自主研发的原子层沉积(ALD)技术,为集成电路、柔性电子等半导体与泛半导体行业提供高端装备与技术解决方案,填补了国产设备在该领域的空白,打破了国外半导体 ALD设备长期垄断的局面。本案中,法院结合专利说明书及附图,对涉案专利的保护范围作出了准确界定,依法维护了微导公司自有创新技术的合法权益,为微导公司推进上市排除了障碍。本案裁判极大鼓励和激发了国内高新技术企业创新创造的热情和活力,为集聚力量进行原创性、引领性科技攻关和实现关键核心技术突破营造了良好的法治环境。本案作为典型案例被江苏高院写入人大报告中。


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